Не только ядерное оружие: ВНИИЭФ неожиданно занялся производством оборудования для чипов

Российский федеральный ядерный центр ВНИИЭФ, известный прежде всего как один из ключевых разработчиков советского ядерного оружия, займётся созданием оборудования для микроэлектронной промышленности. Министерство промышленности и торговли выделило 1,43 млрд рублей на опытно-конструкторские работы по проекту «Спрей», предусматривающему разработку автоматизированной установки жидкостной химической обработки кремниевых пластин. Работы должны завершиться к 30 ноября 2029 года.

При этом важно уточнить: речь не идёт о создании установки для производства микрочипов «с нуля» или замене литографических машин, как можно понять из некоторых публикаций. Новое оборудование предназначено лишь для одного из технологических этапов изготовления полупроводников — химического травления и очистки кремниевых пластин. Это важная, но далеко не единственная операция в длинной производственной цепочке изготовления микросхем.

Что именно будет разрабатывать ВНИИЭФ

Проект предусматривает создание полностью автоматизированной установки для обработки кремниевых пластин диаметром 100, 150 и 200 мм.

Оборудование должно выполнять сразу несколько операций:

• жидкостное химическое травление;
• очистку поверхности пластин;
• промывку;
• сушку.

По условиям технического задания установка должна одновременно обрабатывать до 100 пластин за цикл (четыре стандартные кассеты), автоматически работать с несколькими химическими реагентами и поддерживать загрузку через систему SMIF, которая снижает риск загрязнения пластин частицами пыли.

Почему травление настолько важно

Хотя внимание обычно привлекают литографические машины, именно химическая обработка является одним из базовых этапов производства современных полупроводников.

После нанесения рисунка на пластину необходимо удалить лишний материал с высокой точностью.

Кроме того, подобные установки используются для очистки пластин между технологическими операциями и подготовки поверхности перед следующими этапами производства.

Именно поэтому предприятия по выпуску микросхем используют десятки различных типов оборудования, а литография — лишь один из элементов производственного процесса.

Ставка на импортозамещение

Согласно конкурсной документации, большинство ключевых компонентов новой установки должны быть разработаны и изготовлены в России.

Это касается:

• процессной камеры;
• системы подачи химических реагентов;
• ротора;
• центрального контроллера;
• программного обеспечения.

Использование импортных комплектующих допускается только после отдельного согласования с заказчиком. Такой подход соответствует государственной программе развития отечественного оборудования для микроэлектроники и требованиям по локализации производства.

Почему выбрали именно ВНИИЭФ

Для многих выбор исполнителя может показаться неожиданным.

Однако ВНИИЭФ уже давно занимается не только ядерными разработками.

Институт располагает мощной инженерной школой, компетенциями в области высокоточного машиностроения, автоматизированных систем, материаловедения и сложного научного оборудования.

В последние годы центр всё активнее участвует в проектах, связанных с гражданской промышленностью, включая микроэлектронику.

Буквально несколькими неделями ранее предприятие получило ещё один контракт Минпромторга стоимостью 992,85 млн рублей на разработку оборудования для бондинга и дебондинга полупроводниковых пластин. Таким образом, общая стоимость двух проектов превысила 2,4 млрд рублей.

Насколько это поможет российской микроэлектронике

Создание подобных установок само по себе не решает проблему технологической независимости.

Современное производство микросхем требует десятков различных типов оборудования: литографических машин, установок осаждения плёнок, ионной имплантации, плазменного травления, полировки, метрологии и многих других.

Тем не менее локализация даже отдельных этапов производства снижает зависимость от зарубежных поставщиков и позволяет постепенно формировать собственную производственную цепочку.

Именно поэтому государство в последние годы финансирует сразу несколько направлений разработки отечественного оборудования для электронной промышленности.

Итоги

История выглядит символично: организация, сыгравшая ключевую роль в создании советского ядерного щита, теперь участвует в развитии отечественной микроэлектроники. Однако говорить о том, что ВНИИЭФ будет «создавать оборудование для производства микрочипов» в широком смысле, было бы некорректно.

Новый проект касается одного конкретного, хотя и крайне важного, этапа технологического процесса — химической обработки кремниевых пластин. Если разработка завершится успешно, российская микроэлектронная отрасль получит ещё один элемент собственного производственного оборудования, что станет очередным шагом в программе импортозамещения, но не заменит необходимость создания целого комплекса других высокотехнологичных установок.

источнк https://dzen.ru/a/anC2INhFcWJJHNhv